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新 聞 資 訊

OLED鍍膜氟化鋰


發布時間:

2018-05-07

OLED鍍膜專用氟化鋰,高純氟化鋰,立車光電材料,

   OLED鍍膜專用氟化鋰,高純氟化鋰,立車光電材料,先分析鋰功能與作用,鋰驗電解質組成分所起作用主要是降低電解質初晶點,提高其導電率,此外還減小其密度,改善電解質表面張力,從而達到提高電流效率,降低噸鋁電耗目.其缺點是降低A12O3在溶液中溶解度.由于鋰鹽價格昂貴關系,直到最近,鋰鹽才廣泛地在鋁工業上進行試驗和應用,有使用炭酸鋰,因為炭酸鋰在高溫下分解成Li2O,而氧化鋰又與冰晶石發生反應合成為氟化鋰,同樣也可起到添加氟化鋰作用.
存儲方法:
   保持貯藏器密封,放入緊密貯藏器內,儲存在陰涼,干燥地方.
主要用途:
氟化鋰可作為助溶劑廣泛用于搪玻璃,銅,鋁焊接過程中和鹽熔化學工藝中;也被推薦作為航天技術貯存太陽輻射熱能載熱劑;還可用于鋁電解和冶金工業中.高純氟化鋰用于制氟化玻璃,也可用于制作分光計和X射線單色儀棱鏡.鋰離子電池原料.
.在鋁電解生產中作電解質組分,可提高電導率和電流效率,從而提高金屬生產能力并降低成本,還可以改善碳陽極潤濕性.在陶瓷工業中具有降低燃燒溫度和改善抗驟冷驟熱性能,用作鋁和鋁合金焊接助熔劑組分.高純氟化鋰用于制氟化鋰玻璃,也用于制作分光計和X射線單色儀棱鏡.
用作波長分析型犡射線熒光光譜儀中分析晶體.還用作干燥劑,助熔劑.用于搪瓷工業,光學玻璃制造.
    氟化鋰合成方法:將固體碳酸鋰加入氟化氫溶液中,使之反應析出LiF結晶,經過濾,干燥即得產品.有中和法和復分解法兩種方法.工業生產多采用中和法.中和法是以碳酸鋰或氫氧化鋰與氫氟酸反應制備氟化鋰.其反應式如下:2.用碳酸鋰與氫氟酸反應.立車光電晶體材料
在鉑皿中加入40%氫氟酸,再將純凈碳酸鋰慢慢加入,時有二氧化碳放出,加熱將溶液蒸干并強烈灼燒,趕盡CO2和水分,趁熱用鉑杵將干涸氟化鋰粉碎,裝入塑料瓶中保存.
采用中和法.碳酸鋰或氫氧化鋰與氫氟酸反應制得氟化鋰,經過濾,干燥制得產品.
將99.9%金屬鋰溶于電導水中,然后在不斷攪拌下,慢慢加入純氫氟酸,使沉淀慢慢析出:
當溶液由堿性變為酸性時,停止加酸,靜置0.5h,抽濾后用不含二氧化碳電導水洗滌沉淀,然后于300-400℃下灼燒,冷卻后即得高純品.
氟化鋰 LiF 1-4mm 99.99 250g 308300 透明晶體
產品詳情:LiF晶體顆粒,規格0.1-1mm,純度99.999%,主要用于OLED電極鍍層材料,立車光電無機鹽.
外觀與性狀:白色粉末或立方晶體. 熔點(℃):848  相對密度(水=1):2.6350  沸點(℃):1681(于1100-1200℃揮發) 分子式:LiF   分子量:25.94       水中溶解度:2.7g/L   飽和蒸汽壓(kPa): 0.133/1047℃ 溶解性: 難溶于水,不溶于醇,溶于酸.含量(%):99.99
LiF超薄層引入較好地修飾了ITO表面,減少了陽極和有機層界面缺陷態形成,增強了器件穩定性.實驗結果表明: LiF層有效地阻擋空穴注入,增強載流子注入平衡,提高了器件亮度和效率,含有1 nm厚LiF空穴緩沖層器件性能最好,效率較不含緩沖層器件提高了近1.5倍.
將厚度為0.5 nmLiF薄層引入到雙層有機電致發光器件(OLEDs)Alq3發光/電子傳輸層中作為空穴阻擋/激子限制層,研究其位置對器件光電性能影響.發現LiF薄層在不同位置均明顯提高器件發光效率,當LiF薄膜距離TPD/Alq3界面20-40 nm時,OLEDs最大發光效率約為4.5 cd/A,是對比器件(沒有LiF薄層)1.8倍.OLEDs電流密度隨著減小LiF薄層與陰極距離而增大.研究表明,這是因為LiF薄層可有效阻擋進入復合發光區域未復合過剩空穴并導致其積累,空穴積累可提高電子傳輸區域中電場,提高其中電子傳輸和從陰極注入,從而提高復合發光區域中載流子平衡及其復合幾率;LiF薄層可將激子限制在復合發光區域,減少激子被陰極淬滅幾率.
立車光電材料用真空熱蒸發鍍膜法,在OLED層狀結構中引入不同厚度LiF作陽極修飾層,制備了結構為ITO/LiF/TPD/Alq3/Al器件.LiF超薄層引入較好地修飾了ITO表面,減少了陽極和有機層界面缺陷態形成,增強了器件穩定性.實驗結果表明:LiF層有效地阻擋空穴注入,增強載流子注入平衡,提高了器件亮度和效率,含有1nm厚LiF空穴緩沖層器件性能最好,效率較不含緩沖層器件提高了近1.5倍.