氟化釔為凝膠狀物質(zhì)，熔點(diǎn)1387℃，沸點(diǎn)2230℃，相對密度4.01。不溶于水和稀酸。制備方法:氧化釔與無水氟氫在700℃反應(yīng)8小時，氧化釔與30％以上的二氟化銨在300℃反應(yīng)12小時。氟化釔是一種毒性較小的物質(zhì)，毒性風(fēng)險為四級，對皮膚和眼睛無明顯刺激。氟化釔的富集能力較弱。

用氟化釔代替氟化鋰作為電子注入層材料，金屬鋁作為陰極，制備了有機(jī)電致發(fā)光器件。其中YF3厚度為1.2 nm的器件，最小發(fā)光電壓為2.6 V，最高電流效率為8.52 CD·a-1，最大亮度為36530 CD·m-2。與鋰氟參比樣品相比，最大亮度和電流效率分別提高了39％和53％。

將氟化釔作為改性劑摻入到劉珊珊的鋇中，研究了氟化釔摻雜量對鈦酸鍶鋇致密性和介電性能的影響。YF3摻雜的Ba0.6Sr0.4TiO3材料的介電常數(shù)隨著氟化釔摻雜量的增加先減小后增大，當(dāng)氟化釔摻雜量為5％時，介電常數(shù)降至550（100KHz）左右，介電可調(diào)性達(dá)到9.6％ （1 kV/mm）。當(dāng)摻雜量為20％時，介電常數(shù)為1095（100千赫），介電可調(diào)性達(dá)到19.6％。氟化釔薄膜與其他氟化物（氟化鋇、氟化鈣等）相比，具有較低的折射率（約1.4），較寬的透射帶（0.35 ~ 12 m），較高的硬度。），使得氟化釔薄膜廣泛用于各種襯底上的減反射膜的設(shè)計(jì)。CN201110181075.0提供氧穩(wěn)定氟化釔薄膜。該制備方法通過以下步驟實(shí)現(xiàn):

ZnS基片用超聲清洗15 ~ 30分鐘，用酒精清洗15 ~ 30分鐘，然后用去離子水清洗30分鐘，然后ZnS基片在磁控濺射的旋轉(zhuǎn)下在真空室加熱階段，通過真空系統(tǒng)進(jìn)入真空室，真空度為1.0 ~ 9.9×10×10-4-4pa，然后加熱到25 ~ 1000 ℃并保溫30 ~ 120分鐘。

將氬氣倒入真空室，真空室內(nèi)部壓力為3 ~ 5Pa。對ZnS襯底表面進(jìn)行背面等離子清洗10 ~ 20min。清洗后進(jìn)行反沖洗，施加濺射功率，濺射功率為60 ~ 500瓦，濺射20 ~ 50分鐘，然后打開O2流量開關(guān)，SCCM O2流量控制在1 ~ 100 SCCM，以真空室內(nèi)部的氣體壓力為0.1 ~ 2 pa對硫化鋅襯底表面施涂后，1 ~ 3 h后關(guān)閉涂覆劑的O2流量開關(guān)，繼續(xù)涂覆10 ~ 300分鐘。

涂層完成后，抽真空至2.0×10-4Pa，加熱至200 ~ 1000℃2 ~ 5h。當(dāng)真空室溫度降至室溫時，氧穩(wěn)定氟化釔薄膜的制備就完成了。