用于制備一種氧穩(wěn)定氟化釔薄膜 氟化釔薄膜具有較低的折射率(折射率約為1.4)，較寬的透過波段(0.35～12μm)，和其他氟化物(氟化鋇，氟化鈣等)相比具有較高的硬度，使得薄膜廣泛用于各種襯底上的增透膜的設(shè)計。

氟化釔是一種膠凝狀物質(zhì)，熔點1387℃，沸點2230℃，相對密度4.01。不溶于水，難溶于稀酸。制法：將氧化釔與無水氟化氫于700℃反應(yīng)8小時，或?qū)⒀趸惻c比配比過量30%的氟氫化銨充分混合后，在300℃中反應(yīng)12小時可得。它是弱毒性物質(zhì)，毒性危險度屬IV級，對皮膚和眼沒有明顯的刺激作用。具有弱的蓄積能力。

氟化鑭，是一種白面心立方晶體，幾乎不溶于水，化學(xué)穩(wěn)定性好。主要用于稀土、玻璃、氟化物等化學(xué)發(fā)光電極的制備，金屬鑭的電解生產(chǎn)和氟化鑭單晶的拉拔。

氟化釹在現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)中有著重要的應(yīng)用。氟化釹主要用于生產(chǎn)氟碳化合物和氟化鋁。含氟化釹試劑在有機(jī)合成中起著重要作用。由于硅對氟的高親和力和硅配位數(shù)的增加，在實際應(yīng)用中常采用氟來去除硅醚的保護(hù)基團(tuán)。例如氟化鈉、TBAF和氟化銫。氟化釹常被用作酶抑制劑，并常被用來抑制磷酸酶，如蘇氨酸磷酸酶。